大尺寸原子層沉積系統是由中心自主研發（ZL201610314085.X等）的產品，可滿足12英寸（300 mm）硅片等批量加工需求以及大型零部件的納米薄膜加工需求。系統擁有5個可加熱液態源，可制備多種二元或三元復合納米薄膜，襯底溫度可加熱至400℃，滿足多種加工工藝需求，系統采用PLC全自動控制，可長期穩定可靠連續使用。
1. 襯底尺寸：100 - 300 mm；
2. 襯底數量：可批量加工；
3. 襯底溫度：25℃ - 400℃; ±0.2℃；
4. 前驅體源：5個液態源，其中可加熱源2個；
5. 沉積的均勻性：<±1%；
6. PLC全自動控制。
可應用于微電子、太陽能、光電、光學、防腐等領域。
